Les programmes CMC microsystems, SiEPIC et NUCLEUS proposent le légendaire atelier annuel Passive Silicon Photonics Fabrication Workshop 2025.
Cet atelier est plus qu’un simple atelier de plusieurs jours. Il s’agit d’une expérience qui s’étend sur une année, y compris un cycle de conception-fabrication-test dans la construction de puces photoniques au silicium sur des technologies SOI au silicium et au nitrure de silicium fournies par Applied NanoTools, Alberta, Canada.
Le cycle conception-fabrication-test se déroule au cours des six mois suivants. Les étudiants analysent les données des tests et soumettent le rapport final.
L’atelier a pour but d’amener les étudiants à la pointe de la recherche et de la commercialisation dans le domaine de la photonique du silicium. Lumerical (qui fait maintenant partie de la famille ANSYS) et Luceda Photonics soutiennent cet atelier en fournissant des arrangements d’accès à leurs outils.
Remarques importantes :
- Pour obtenir l’accès aux informations technologiques confidentielles de l’ANT fournies pendant le cours et nécessaires à la fabrication, votre organisation doit soit avoir des accords de non-divulgation (NDA) actifs en place, soit signer de nouveaux accords de non-divulgation avant la divulgation des informations. Veuillez contacter Jessica Zhang (zhang@cmc.ca) pour faciliter le processus d’exécution de l’accord de non-divulgation.
- Les participants à l’atelier auront accès à d’autres informations exclusives et confidentielles au cours de la formation. Chaque participant est tenu de signer un
. Les participants doivent soumettre l’accord signé à Sarah Neville (Neville@cmc.ca) avant la confirmation de leur inscription.accord d’accès à la propriété intellectuelle et de non-divulgation
Pré-requis
Avoir terminé un programme de premier cycle en génie électrique ou en physique appliquée.
Les étudiants des provinces de la Colombie-Britannique et du Québec peuvent obtenir trois crédits en s’inscrivant et en suivant les cours d’études supérieures suivants :
- GEL7070 ou GEL7071, de l’université Laval
- ELEC 582, de l’UBC
Pour plus d’informations, contactez Professeur Lukas Chrostowski (UBC) ou Professeur Wei Shi (Université Laval).
Contenu
La formation comprend des conférences de 30 heures, des licences de trois mois pour les outils de CAO/simulation, des zones de fabrication de puces sur des séries de fabrication ANT agrégées par CMC, un accès d’un an au référentiel SiEPIC, une assistance technique de CMC jusqu’à la mise en bande et un test automatique de l’UBC sur les puces fabriquées.
Vous commencerez par une étude en ligne à votre rythme à partir du référentiel SiEPIC. Le matériel couvre la théorie et la simulation sur :
- Guides d’ondes,
- Coupleurs,
- Caillebotis, et
- Résonateurs.
L’atelier en personne suivra et se concentrera sur les points suivants :
- Conception de dispositifs et de circuits photoniques passifs avancés,
- L’IA au service de la conception photonique et des nouveaux dispositifs,
- Introduction à la technologie ANT nanoSOI,
- Disposition et vérification des masques,
- Revue de la conception, conception pour la fabrication (DFF) et conception pour l’essai (DFT), et
- Analyse du coin et analyse des données.
Calendrier des formations
- Accéder au référentiel en ligne après confirmation de l’inscription. Apprentissage à son rythme à partir de conférences vidéo préenregistrées, de tutoriels et d’activités.
- Atelier passif en personne : 20 au 24 novembre 2025
- ANT Si SOI fabrication masque de fabrication date limite de soumission : 23 février 2026
- ANT SiNx SOI fabrication masque de fabrication date limite de soumission : 9 mars 2026
- Analyser les données d’essai relatives à la conception, soumettre un rapport final
Description de la technologie
Technologie ANT
- Silicium sur isolant, film de Si supérieur de 220 nm, oxyde enfoui de 2000 nm (BOX)
- Nitrure de silicium sur silicium sur isolant, film supérieur SiNx de 400 nm, couche BOX de 4,5 µm
- Lithographie par faisceau d’électrons, permettant des caractéristiques jusqu’à 60 nm
- Soutient :
- guides d’ondes (bande)
- réseaux pour le couplage de fibres
- réchauffeurs métalliques pour le déphasage thermo-optique
- tranchées profondes et nanocoupes pour le couplage des bords
- multiplexeurs, filtres, résonateurs en anneau et à disque
- La fabrication est assurée par Applied Nanotools (ANT) au Canada. D’autres capacités, telles que les coupleurs de bord, les ouvertures de fenêtres d’oxyde et les tranchées d’isolation thermique, sont disponibles en dehors de l’atelier par l’intermédiaire d’Applied Nanotools.
- Des puces séparées de l’atelier peuvent être fabriquées et livrées moyennant un supplément. Contactez zhang@cmc.ca pour plus d’informations.
Accès aux outils
- ANSYS Lumerical – Lumerical offre aux participants à l’atelier un accès gratuit aux licences d’atelier Lumerical pendant l’atelier et après l’atelier, dans le but de compléter leurs conceptions de cours.
- Luceda Photonics – Luceda offre aux participants à l’atelier un accès gratuit à ipkiss basé sur Python pendant l’atelier. Les abonnés du CMC peuvent continuer à accéder à la licence par le biais du système CADPass du CMC.
Voyage et hébergement
Sur le campus :
- Université de l’Alberta Lister Conference Centre : Le prix de la chambre est de 129 $ par nuit.
- Campus Tower Suite Hotel: Tarif réduit pour l’Université de l’Alberta : 155 $ – 181 $ par nuit
Hors campus :
Les meilleurs endroits sont les hôtels du centre-ville qui sont bien reliés au campus de l’Université de l’Alberta par le métro léger.