En partenariat avec le programme SiEPIC et des professeurs de l’Université Laval, de l’UBC, de Toronto, McGill et Queen’s, CMC Microsystems offre cet atelier légendaire sur la photonique sur silicium en personne à l’Université de la Colombie‑Britannique (UBC), à Vancouver, du 20 au 24 mai 2024.
L’atelier enseignera aux participants comment concevoir, simuler, fabriquer et tester des circuits intégrés photoniques (PIC). Les conceptions des participants seront fabriquées en utilisant la technologie AMF Si Photonics, accessible via CMC Microsystems.
Siemens et Lumerical (désormais membre de la famille Ansys) soutiennent ce cours en offrant l’accès à leurs outils et services aux participants (voir plus bas).
Notes importantes
- Vous devrez remplir des questionnaires de contrôle des exportations pour la fabrication des puces. Contactez Sarah Neville (Neville@cmc.ca) pour obtenir une copie des questionnaires.
- Pour obtenir l’accès aux informations technologiques confidentielles fournies durant le cours, votre organisation doit signer un accord de confidentialité (NDA) avec CMC pour l’accès AMF. Contactez Jessica Zhang (Zhang@cmc.ca) afin de compléter le processus avant le 6 mai 2024.
- Les participants auront également accès à d’autres informations propriétaires et confidentielles ; chacun doit signer un Accord d’accès à la propriété intellectuelle et de confidentialité. Le formulaire signé doit être soumis à Sarah Neville avant le 13 mai 2024.
- La date limite d’inscription est le 15 mai 2024 à 00 h.
Pré-requis
Avoir complété le cours sur la photonique nanométrique en silicium passive, ou avoir de l’expérience en conception PIC, ou avoir la permission des instructeurs.
Calendrier
| Date | Activité | Heure | Lieu |
| 20–24 mai 2024 | Atelier | 9 h – 17 h (PT) | MacLeod Building, room 3018 2356 Main Mall, Vancouver, BC V6T 1Z4 |
Options d’inscription
Atelier + Fabrication
Une formation d’un an en conception, fabrication et test de dispositifs et circuits photoniques actifs en silicium.
Les frais incluent :
- un atelier en personne de 5 jours
- une licence de 3 mois pour les outils de CAO/simulation [1]
- des zones de fabrication [2] sur la série AMF agrégée par CMC
- un accès annuel au matériel pré‑enregistréun soutien technique CMC jusqu’au tape‑out
Crédits universitaires possibles pour :
- Université Laval : GEL 7070 ou GEL 7071
- Université Queen’s PHYS 982
- UBC ELEC585
- Université de Toronto ECE1460H
Atelier seulement (sans fabrication)
Les frais incluent :
- un atelier en personne de 5 jours
- une licence de 3 mois pour les outils de CAO/simulation
- un accès d’un an au matériel pré‑enregistré
La fabrication des puces n’est pas incluse.
Notes supplémentaires
- La licence Siemens impose des restrictions aux participants non académiques. La licence Lumerical peut imposer des restrictions aux participants non canadiens. Contactez Jessica Zhang pour les détails.
- Les frais couvrent une zone de conception de 1,5 mm². Les participants peuvent augmenter leur espace de conception (selon disponibilité) en payant un tarif réduit. Contactez Jessica Zhang pour les détails.
- Les étudiants des universités du Québec et de l’Ontario peuvent obtenir des crédits via le programme d’échange :Laval : contacter le professeur Shi (wei.shi@gel.ulaval.ca)
Queen’s : contacter le professeur Shastri (shastri@queensu.ca)
Calendrier des formations
- Vidéos, tutoriels et activités pré‑enregistrés en ligne (passifs + introduction aux actifs) — accessibles toute l’année
- Atelier en personne : 20–24 mai 2024
- Conception, simulation et masques : juin à octobre 2024
- Accès aux outils CAO, tutoriels et forums
- Retour sur la conception
- Date limite des propositions AMF : 13 septembre 2024
- Date limite de soumission des masques AMF : 15 octobre 2024
- Livraison des puces AMF : mai 2025
- Tests et validation : juin à août 2025
- Rapport final : août 2025
Description de la technologie
Technologie AMF
- Silicium sur isolant, film de Si supérieur de 220 nm, oxyde enfoui de 3000 nm (BOX)
- Lithographie UV 193 nm (caractéristiques jusqu’à 120 nm)
- Appuie la conception et la fabrication d’une série de composants et de systèmes, à savoir
- modulateurs
- détecteurs
- guides d’ondes (bande ou crête)
- réseaux pour le couplage de fibres
- tranchées profondes et nanocoupes pour le couplage des bords
- multiplexeurs (guides d’ondes à diffraction ou à réseaux) et filtres (résonateurs, réseaux de Bragg)
- résonateurs à anneau et à disque
- La fabrication est effectuée chez AMF à Singapour.
Détails du cours
Résumé du programme d’enseignement
- Procédés de fabrication et kits de conception
- Modélisation de dispositifs (détecteurs, modulateurs, anneaux, MZI, jonctions PN et PIN, accord thermique, composants optiques, conception d’électrodes pour les micro-ondes)
- Mise en page et vérification
- Conception pour test et pour fabrication
Accès aux outils
- De Siemens :
- Accès gratuit à Tanner et Calibre pour les participants académiques pendant et après l’atelier pour compléter leur conception.
- De Ansys Lumerical :
- Licence gratuite durant et après l’atelier pour compléter les conceptions (des conditions s’appliquent pour les participants hors Canada).
- Les participants à l’extérieur du Canada peuvent devoir utiliser leur propre licence Lumerical.
Voyage et hébergement
Les participants doivent organiser leurs déplacements et hébergements.
Les options sur le campus sont disponibles ici :
https://visit.ubc.ca/eat-drink-and-stay/accommodation/