CMC et ses professeurs partenaires SiEPIC offrent ce légendaire atelier de fabrication de photonique sur silicium à partir du 10 septembre 2024.
Cet atelier est plus qu’un simple atelier de plusieurs jours. Il s’agit d’une expérience qui s’étend sur une année, comprend deux cycles de conception-fabrication-test et se déroule à la fois en ligne et en personne.
Il débute par trois mois d’activités en ligne, comprenant des cours théoriques sur les thèmes suivants
- Guides d’ondes
- Coupleurs
- Caillebotis
- Résonateurs
Le premier cycle de conception-fabrication-test passif se fait sur une puce partagée fabriquée par la technologie ANT nanoSOI. Les étudiants feront l’expérience sur
- Modélisation des composants passifs
- Conception de dispositifs et de circuits
- Disposition du masque
- Revue de la conception, conception pour la fabrication (DFF) et conception pour l’essai (DFT)
- Analyse des données
Il sera suivi d’un atelier en personne (Université de Carleton, Ottawa, 10 – 12 janvier 2025, lieu à déterminer) axé sur les points suivants
- Conception avancée de la photonique passive
- L’IA au service de la conception photonique et des nouveaux dispositifs
- Introduction au deuxième cycle de fabrication de la technologie CMC AMF MPW
- Disposition et vérification des masques
Le cycle conception-fabrication-test se déroule au cours des six à neuf mois suivants. Les étudiants reçoivent des puces fabriquées à partir de leurs conceptions.
L’atelier a pour but d’amener les étudiants à la pointe de la recherche et de la commercialisation dans le domaine de la photonique du silicium. Siemens et Lumerical (qui fait maintenant partie de la famille ANSYS) soutiennent ce cours en fournissant des arrangements d’accès à leurs outils.
Remarques importantes :
- Pour obtenir l’accès aux informations technologiques confidentielles de l’ANT et de l’AMF fournies pendant le cours et nécessaires à la fabrication, votre organisation doit soit avoir des accords de non-divulgation (NDA) actifs en place, soit signer de nouveaux NDA avant la diffusion de l’information. Veuillez contacter Jessica Zhang pour faciliter le processus d’exécution de l’accord de non-divulgation.
- Les participants à l’atelier auront accès à d’autres informations exclusives et confidentielles au cours de la formation. Chaque participant est tenu de signer un accord d’accès à la propriété intellectuelle et de non-divulgation. Les participants doivent soumettre l’accord signé à Sarah Neville avant la confirmation de l’inscription.
Pré-requis
Avoir terminé un programme de premier cycle en génie électrique ou en physique appliquée.
Horaire
| Date | Temps | Lieu |
| Du 10 septembre au 13 décembre 2024 | N/A | Cours en ligne : cours vidéo préenregistrés, tutoriels et activités |
| 10 au 12 janvier 2025 | 9h00 à 18h00 | Atelier sur place, Ottawa, lieu à déterminer |
Inscription
La formation comprend des conférences de 30 heures, des licences de trois mois pour les outils de CAO/simulation (voir note), des zones de fabrication de puces sur ANT et des cycles de fabrication AMF regroupés par CMC, un accès d’un an au matériel préenregistré, ainsi qu’une assistance technique de CMC jusqu’à la fin des enregistrements.
Les étudiants des universités canadiennes peuvent obtenir 3 crédits en s’inscrivant et en suivant les cours de troisième cycle proposés par :
- Laval GEL7070 ou GEL7071
- UBC ELEC 582
Remarque : la licence Siemens impose des restrictions d’accès aux participants non universitaires. Contactez Jessica Zhang pour les mises à jour.
Horaire des formations
- Conférences en ligne, conférences vidéo préenregistrées, tutoriels et activités après confirmation de l’inscription.
- Date limite de soumission du masque de fabrication de l’ANT : 21 octobre 2024
- Atelier passif en personne : 10 au 12 janvier 2025
- Résultat des tests du dispositif ANT : Février 2025
- Date limite de soumission de la disposition du masque de fabrication de l’AMF : 14 avril 2025
Description de la technologie
Technologie ANT
- Silicium sur isolant, film de Si supérieur de 220 nm, oxyde enfoui de 2000 nm (BOX)
- Lithographie par faisceau d’électrons, permettant des caractéristiques jusqu’à 60 nm
- Soutient :
- guides d’ondes (bande)
- réseaux pour le couplage de fibres
- réchauffeurs métalliques pour le déphasage thermo-optique
- tranchées profondes et nanocoupes pour le couplage des bords
- multiplexeurs, filtres, résonateurs en anneau et à disque
- La fabrication est assurée par Applied Nanotools au Canada. D’autres capacités, telles que les coupleurs de bord, les ouvertures de fenêtre d’oxyde et les tranchées d’isolation thermique, sont disponibles en dehors du cours par l’intermédiaire d’Applied Nanotools.
Technologie AMF
- Silicium sur isolant, film de Si supérieur de 220 nm, oxyde enfoui de 3000 nm (BOX)
- Plaque de poignée à haute résistivité (>750 ohm-cm)
- Lithographie UV profonde à 193 nm pour les guides d’ondes, permettant des caractéristiques jusqu’à environ 140 nm
- Deux gravures partielles et une gravure complète du silicium supérieur
- Intégration de guides d’ondes en nitrure de silicium PECVD
- 6 implants pour modulateurs optiques (P++, P+, P, N++, N+, N)
- Dépôt et implantation de germanium pour photodétecteurs
- Deux niveaux de métal, pas de planarisation
- Gravure d’oxyde sur la face avant pour exposer sélectivement les guides d’ondes, par exemple pour les applications de détection
- Tranche profonde avec facettes gravées pour le couplage des bords
- Appuie la conception et la fabrication d’une série de composants et de systèmes, à savoir
- modulateurs
- détecteurs
- guides d’ondes (bande ou crête)
- réseaux pour le couplage de fibres
- tranchées profondes et nanocoupes pour le couplage des bords
- multiplexeurs (guides d’ondes à diffraction ou à réseaux) et filtres (résonateurs, réseaux de Bragg)
- résonateurs à anneau et à disque
Access to Tools
- Siemens – Siemens offre aux participants aux ateliers des institutions universitaires un accès gratuit aux licences Tanner et Calibre pendant et après l’atelier, dans le but de compléter leurs conceptions de cours. L’accès aux licences pour les participants industriels sera examiné par Siemens (Mentor) au cas par cas.
- ANSYS Lumerical – Lumerical offre aux participants à l’atelier un accès gratuit aux licences d’atelier Lumerical pendant l’atelier et après l’atelier afin de compléter leurs conceptions de cours.
