Atelier 2026 sur la fabrication de dispositifs photoniques passifs sur silicium

Atelier 2026 sur la fabrication de dispositifs photoniques passifs sur silicium

Soutenu par
FABrIC-HORIZONTAL-Lockup-E+F

Formation en fabrication de dispositifs photoniques sur silicium – de la théorie à la simulation, à la conception, au dessin des masques, à la fabrication, aux essais, jusqu’à l’analyse des données et au rapport

Présentation de l’atelier

En partenariat avec SiEPIC et le programme CREATE NUCLEUS du CRSNG, ainsi qu’avec FABrIC — un projet financé par le gouvernement du Canada et géré par CMC Microsystèmes —, CMC offre de nouveau ce légendaire atelier de photonique sur silicium à l’UBC, à Vancouver.

Cet atelier en personne enseignera aux participants comment concevoir, simuler, fabriquer et tester des circuits intégrés photoniques (PIC). Les conceptions des participants seront fabriquées au moyen des technologies de photonique sur silicium d’Applied NanoTools (ANT), offertes par l’intermédiaire de CMC Microsystèmes.

Conçu pour

  • Les étudiants de dernière année de premier cycle en électronique et en physique appliquée.
  • Les étudiants à la maîtrise et au doctorat qui développent leurs compétences pour la recherche et l’industrie en photonique.
  • Les professionnels de l’industrie qui souhaitent un perfectionnement structuré en conception et en fabrication photoniques.
Remarques importantes
  1. Les participants à la formation auront accès à d’autres renseignements exclusifs et confidentiels pendant l’événement; chaque participant doit accepter les modalités de l’Entente d’accès à la propriété intellectuelle et de non-divulgation au moment de l’inscription.
  2. Pour accéder à la technologie confidentielle d’ANT fournie pendant le cours et nécessaire à la fabrication, votre organisation doit avoir des ententes de non-divulgation (EDN) en vigueur ou signer de nouvelles ententes de non-divulgation avant la communication de l’information. Veuillez communiquer avec Jessica Zhang pour faciliter la signature de l’EDN.

Préalables

Avoir terminé un programme de premier cycle en génie électrique ou en physique appliquée.

Contenu

  • Formation de six mois en conception, fabrication et essai de dispositifs et de circuits photoniques passifs sur silicium;
  • Atelier de cinq jours en personne.
  • Licence de trois mois pour les outils de CAO et de simulation des commanditaires afin de réaliser des conceptions complètes
  • Accès d’un an au répertoire d’apprentissage de SiEPIC, activé une fois l’inscription confirmée
  • Fabrication d’une puce en technologie Si ou SiNx d’ANT, regroupée par CMC
  • Soutien de CMC jusqu’à la livraison des puces
  • Cours des cycles supérieurs GEL7070 et GEL7071 crédités par l’Université Laval
  • Cours des cycles supérieurs ELEC582 crédité par l’UBC

Horaire de la formation

Format

Contenu

Échéancier

Étude autonome

Répertoire en ligne de SiEPIC

Dès la confirmation de l’inscription

En personne

Cours magistraux, tutoriels, technologies d’ANT, mini-projets et présentations sur des sujets avancés en photonique

Du 5 au 9 janv. 2027
9 h à 18 h (HNP)

Conception autonome

Développement des compétences sur les outils de CAO, dont Lumerical, Luceda, K-layout et GDSFactory

Du 11 janv. au 28 févr. 2027

Dessin des masques autonome

Conception et vérification du dessin des masques à l’aide du PDK d’ANT et de la DRC sur son centre de conception

Du 1er févr. à mars 2027, date de tape-out à déterminer

Autonome

Livraison des puces, essais et analyse des données

À partir de juin 2027

Autonome

Rapport final en vue de la réussite des cours des cycles supérieurs offerts par l’Université Laval et l’UBC

Juillet 2027

Exigences en matière d'équipement

  • Ordinateur portable sous Windows, macOS ou Linux
  • Adaptateur d’alimentation pour une journée complète de formation

Déplacement et hébergement

Les participants prennent leurs propres dispositions de voyage et d’hébergement. Hôtels recommandés sur le campus de l’UBC :

Résumé de l'événement

Durée
6 mois, du 5 janvier au 31 juillet 2027


Format et lieu
En personne : Vancouver (C.-B.)


Fin des inscriptions
16 décembre 2026


Formation en personne
Atelier de cinq jours


Accès aux outils de CAO/EDA
Licences d’outils fournies par des entreprises d’outils de CAO


Répertoire en ligne
Accessible pendant 1 an après l’atelier


Certificat
Délivré par CMC Microsystèmes à la fin de l’atelier

Tarif et inscription
Atelier avec mise en œuvre

1 250 $

Général

2 300 $

Atelier uniquement

Général

1 600 $

Coordonnées

N’hésitez pas à nous contacter si vous avez des questions concernant le contenu de l’événement, les inscriptions ou les conditions de participation.

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