Formation : Conception et simulation de MEMS à l’aide d’IntelliSuite

FABrICfinancé par le gouvernement du Canada et géré par CMC Microsystèmessoutient des cours de formation et de recyclage conçus pour doter les chercheurs académiques et industriels des compétences et connaissances essentielles nécessaires pour exceller dans les rôles de développement de produits et de fabrication au sein de l’industrie canadienne des semi-conducteurs.

CMC Microsystems a le plaisir d’annoncer un programme complet de formation en ligne sur la conception et la simulation de MEMS à l’aide d’IntelliSuite, présenté par le Dr Sripada Raja d’IntelliSense. IntelliSuite est un progiciel robuste offrant des solutions de bout en bout pour la simulation des MEMS, couvrant l’analyse multi-physique, la simulation des processus de microfabrication et les flux de travail d’intégration des systèmes.

Rejoignez-nous pour ce programme de formation engageant et informatif et améliorez vos compétences en matière de conception et de simulation MEMS avec IntelliSuite !

À quoi s'attendre

M. Raja présentera les capacités de simulation avancées d’IntelliSuite, en mettant l’accent sur les solutions pratiques aux défis complexes de la conception des MEMS. La formation couvrira :

  • Défis multiphysiques : Traiter les phénomènes physiques couplés tels que les interactions thermiques, mécaniques, fluidiques et électriques essentielles à la performance des MEMS.
  • Simulations de processus de microfabrication : Simulation de l’ensemble du processus de fabrication afin de prévoir et d’atténuer les problèmes potentiels avant la production, garantissant ainsi la précision et l’efficacité de la conception.
  • Techniques d’intégration au niveau du système : Intégration des dispositifs MEMS dans des systèmes plus vastes, en se concentrant sur l’optimisation des performances, de la fiabilité et de l’évolutivité.

Pour plus de détails, se référer au plan de cours.

Schéma de formation

Cette session présentera et fournira une approche étape par étape de l’utilisation d’IntelliSuite pour la conception et la simulation complètes de MEMS. Les principaux sujets abordés sont les suivants :
  1. Introduction à IntelliSuite : Vue d’ensemble d’IntelliSuite en tant qu’outil de simulation MEMS complet.
  2. Conception d’agencement en 2D et modélisation en 3D : Création de schémas en 2D et conversion en modèles 3D détaillés.
  3. Importation/exportation de fichiers GDSII/DXF : Traitement efficace des fichiers de conception grâce à la fonctionnalité de vérification des règles de conception (DRC).
  4. Intégration de modèles CAO 3D : Importation et exportation de modèles CAO 3D en toute transparence dans IntelliSuite.
  5. Modélisation thermique, électrique et mécanique des MEMS : Démonstration de simulations par éléments finis (FEM/FEA, BEM) pour les simulations thermiques, électriques et mécaniques et les simulations de physique couplée.
  6. Modélisation de l’ordre réduit (ROM) : Effectuer des simulations ROM et les intégrer aux outils d’automatisation de la conception électronique (EDA).
  7. Définition de la recette du processus de fabrication des dispositifs MEMS : Création et simulation de recettes de processus autonomes pour les dispositifs MEMS (par exemple, dépôt par diffusion, lithographie par faisceau d’ions, lithographie en niveaux de gris).
  8. Simulation de micro-usinage en vrac (humide/sec) :
    • Simulation de matériaux tels que le silicium (Si), le quartz (Qz), l’oxyde d’aluminium (Al₂O₃), le phosphure d’indium (InP), l’arséniure de gallium (GaAs) et l’arséniure d’aluminium et de gallium (AlGaAs).
    • Gravure de plans à indice élevé sur une orientation de plan définie par l’utilisateur.
    • Les vitesses de gravure sont basées sur des données expérimentales et des vitesses de gravure définies par l’utilisateur.
  9. Modèles de kits de conception de processus MEMS (PDK) : Utiliser des modèles de processus et explorer les PDK, y compris MEMSCAP, le processus GE Polaris et la technologie TSV (Through-Silicon Via).
  10. Études de cas : Des exemples concrets de conception de MEMS, notamment des commutateurs optiques, des capteurs de pression et des dispositifs piézoélectriques.

Possibilité d'accès et de retour d'information

Les abonnés du CMC auront accès au logiciel IntelliSuite pour une période d’essai d’une durée déterminée après la formation. Cette période d’essai a pour but d’aider les utilisateurs à acquérir une expérience pratique de l’outil, à évaluer ses caractéristiques et à adapter son utilisation à leurs besoins spécifiques. Nous encourageons les abonnés du CMC à tirer le meilleur parti du logiciel pendant la période d’essai. Au cours de cette période, les commentaires des utilisateurs joueront un rôle crucial dans l’évaluation de l’aptitude du logiciel à être adopté à grande échelle par le CMC. Votre participation active à la formation et à la période d’essai sera très appréciée, car elle aidera le CMC à identifier les meilleurs outils de CAO MEMS pour ses abonnés.

Détails et programme de la formation

Événement : Formation en ligne sur la conception et la simulation de MEMS avec IntelliSuite
Durée de l’enquête : Trois sessions d’une demi-journée
Organisé par :
CMC Microsystems

Jour Date Heure (EST) Contenu
1 Mercredi, 12 février 2025 4 heures : 12:00 – 16:00
  • Vue d’ensemble des capacités des outils de CAO pour les MEMS
  • Conception d’un plan en 2D et conversion en modèle 3D
  • Introduction à la simulation multiphysique pour les dispositifs MEMS
  • Simulations de dispositifs MEMS (y compris piézorésistifs et piézoélectriques)
2 Jeudi, 13 février 2025 4 heures : 12:00 – 16:00
  • Introduction aux capacités des outils de microfabrication
  • Importation/exportation de fichiers GDSII et DXF
  • Simulations de recettes de procédés autonomes et de procédés de fabrication de dispositifs MEMS
  • Exploration des kits de conception de processus MEMS (PDK) : MEMSCAP, GE Polaris Process et TSV
  • Simulation de micro-usinage en vrac (Si, Quartz, Al2O3, InP, GaAs, AlGaAs)
  • Gravure plane à indice élevé sur une orientation de plan définie par l’utilisateur.
  • Les vitesses de gravure sont basées sur des données expérimentales et des vitesses de gravure définies par l’utilisateur.
3 Vendredi, 14 février 2025 2 heures : 12:00 – 14:00
  • Introduction à la simulation de macro-modèles
  • Liaison avec d’autres outils EDA
Tarif et inscription

L’inscription est close.

Contact

Qader Qureshi

Gestionnaire, MNI

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